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前沿設(shè)備 | 先進(jìn)制程芯片分析能力介紹-微區(qū)分析技術(shù)TEM

更新時(shí)間:2023-08-24  |  點(diǎn)擊率:548

透射電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope,簡(jiǎn)稱TEM),是一種以電子束為光源的基于電子顯微學(xué)的微觀物理結(jié)構(gòu)分析技術(shù),分辨率最高可以達(dá)到0.1nm左右。TEM技術(shù)的出現(xiàn),大大提高了人類肉眼觀察顯微結(jié)構(gòu)的極限,是半導(dǎo)體領(lǐng)域不可少的顯微觀察設(shè)備,也是半導(dǎo)體領(lǐng)域工藝研發(fā)、量產(chǎn)工藝監(jiān)控、工藝異常分析等不能缺少的設(shè)備。


     TEM在半導(dǎo)體領(lǐng)域具有非常廣泛的用途,如晶圓制造工藝分析、芯片失效分析、芯片逆向分析、鍍膜及刻蝕等半導(dǎo)體工藝分析等等,客戶群體遍布晶圓廠、封裝廠、芯片設(shè)計(jì)公司、半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)、材料研發(fā)、高??蒲性核?。



01 TEM技術(shù)團(tuán)隊(duì)能力介紹


廣電計(jì)量的TEM技術(shù)團(tuán)隊(duì)由陳振博士牽頭,團(tuán)隊(duì)技術(shù)骨干的相關(guān)行業(yè)經(jīng)驗(yàn)均在5年以上,不僅具有豐富的TEM結(jié)果解析經(jīng)驗(yàn),還具有豐富的FIB制樣經(jīng)驗(yàn),具備7nm及以上先進(jìn)制程晶圓的分析能力及各種半導(dǎo)體器件關(guān)鍵結(jié)構(gòu)的解析能力,目前服務(wù)的客戶遍布國(guó)內(nèi)的晶圓廠、封裝廠、芯片設(shè)計(jì)公司、高校科研院所等,并受到客戶廣泛的認(rèn)可。


02設(shè)備能力介紹

TEM設(shè)備


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TEM型號(hào):Talos F200X參數(shù) 

1.電子槍:X-FEG

2.200Kv時(shí)亮度1.8*109 [A/cm2/Sr]

 EDS探頭型號(hào):Super-X

3.HRTEM信息分辨率:0.12 nm

HRSTEM分辨率:0.16 nm

TEM樣品制備設(shè)備DB FIB

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DB FIB型號(hào):Helios 5 CX參數(shù) 

1.離子源:液態(tài)鎵離子源

2.EDS探頭型號(hào)/有效活區(qū)面積:

Ultim Max65/65mm2

3.離子束分辨率:2.5 nm@30Kv

4.電子束分辨率:1.0  nm@1.0 Kv,

0.6nm@15Kv


03TEM服務(wù)項(xiàng)目介紹


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04關(guān)于陳振博士

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陳振

無(wú)錫廣電計(jì)量副總經(jīng)理


復(fù)旦大學(xué)材料物理專業(yè)博士,上海市“科技創(chuàng)新行動(dòng)計(jì)劃"技術(shù)平臺(tái)負(fù)責(zé)人,無(wú)錫市發(fā)展改革研究中心決策咨詢專家,南京大學(xué)和西安電子科技大學(xué)碩士研究生兼職導(dǎo)師,上海“菊?qǐng)@工匠"、“嘉定技術(shù)能手",負(fù)責(zé)的先進(jìn)制程芯片檢測(cè)項(xiàng)目入選“上海市檢驗(yàn)檢測(cè)創(chuàng)新案例"。


曾參與國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目2項(xiàng),國(guó)家自然基金面上項(xiàng)目3項(xiàng),國(guó)外高水平期刊發(fā)表SCI論文8篇,申請(qǐng)發(fā)明Z利1項(xiàng),出版光電傳感器英文論著1部。



廣電計(jì)量堅(jiān)持以客戶為中心,在全國(guó)主要經(jīng)濟(jì)圈設(shè)有60多家分子公司,擁有近6000名優(yōu)秀員工,搭建了全國(guó)一體化計(jì)量檢測(cè)與認(rèn)證技術(shù)公共服務(wù)平臺(tái)。企業(yè)服務(wù)能力覆蓋裝備制造、汽車、航空、軌道交通、船舶、通信、電力、電子電器、食品、環(huán)保、農(nóng)業(yè)、醫(yī)療、石化等領(lǐng)域,可迅速響應(yīng)各行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈上下游客戶需求,為客戶提供近距離、本地化的專業(yè)服務(wù),幫助其提升自身競(jìng)爭(zhēng)力。



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